2024年 8- 一年一度化合物半导体行业盛会——2024九峰山论坛暨中国国际化合物半导体产业博览会（简称“JFSC＆CSE”）将于武汉光谷科技会展中心举办。新毅东（上海）科技有限公司将携新品亮相本届盛会，诚邀业界同仁莅临3T19展台参观、交流合作。

本届CSE博览会由第三代半导体产业技术创新战略联盟、九峰山实验室共同主办，以“聚势赋能 共赴未来”为主题，将汇集全球顶尖的化合物半导体制造技术专家、行业领袖和创新者，采用“示范展示+前沿论坛+技术与商贸交流”的形式，为产业链的升阶发展搭建供需精准对接平台，助力企业高效、强力拓展目标客户资源，加速驱动中国化合物半导体产业链的完善和升级。

CSE作为2024年首场国际化合物半导体产业博览会得到了多方力量的大力支持，三大主题展区，六大领域，将集中展示各链条关键环节的新技术、新产品、新服务，将打造化合物半导体领域的标杆性展会。助力打造全球化合物半导体平台、技术、产业的灯塔级盛会，集中展示化合物半导体上下游全产业链产品，搭建企业发布年度新产品新技术的首选平台，支撑产业链及中部地区建设具有全球影响力的万亿级光电子信息产业集群。

新毅东（上海）科技有限公司（以下简称“BNE”）成立于2014年 ，公司总部坐落于上海浦东临港新片区，是一家提供半导体高端装备系统解决方案的高新技术企业。BNE致力于光刻机、涂胶显影机及高端湿法设备的研发及生产，积极引入海外成熟的产品与技术，具备为客户提供相关设备的制程整合及解决方案。核心产品广泛应用于集成电路、化合物半导体、微机电系统、光通信及照明等重要领域。与此同时BNE与中芯国际、燕东微电子、三安光电等半导体业界众多龙头企业保持良好的合作，积累了丰富的应用端的技术经验，培养了具有专业素质的技术开发及服务团队。主营业务：涂胶显影设备、高端湿法设备的研发和生产；光刻再制造、涂胶显影再制造；半导体设备零部件研发替代及相关技术服务。

产品介绍

光刻机再制造设备

致力于Nikon、Canon系列等光刻设备的再制造，产品应用领域覆盖集成电路、合物半导体、微机电系统、光通信及照明等。

Nikon系列产品

Nikon G线光刻机，光源波长436nm，投影比例5:1，分辨率0.65µm，适用于2/4/6英寸生产线；

Nikon i线步进投影式光刻机，光源波长365nm，投影比例5:1，分辨率0.6~0.35µm，适用于2/4/6/8英寸生产线；

Nikon SF扫描式光刻机系列，光源波长365nm，投影比例4:1，分辨率0.28~0.35µm，适用于4/6/8/12英寸生产线；

Nikon KrF扫描式光刻机及Nikon EX系列，光源波长248nm，投影比例4:1，分辨率0.25~0.11µm，适用于4/6/8/12英寸生产线；

Nikon ArF扫描式光刻机，波长193nm，投影比例4:1，分辨率优于0.07µm，适用于8英寸及12英寸生产线。

Canon系列产品

Canon i线光刻机，波长365nm，投影比例5:1，分辨率0.5µm-0.35µm。适用于4/6/8英寸范围生产线。

Canon KrF光刻机，波长248nm，投影比例4:1，分辨率0.25µm~0.13µm。适用于4/6/8/12英寸范围生产线。

高端湿法设备

槽式清洗设备XW3000系列

槽式清洗设备XW3000系列，可用于RCA清洗，湿法去胶，介质层湿法刻蚀，金属层湿法刻蚀，炉管前清洗以及其它特殊工艺清洗需求。设备采用模块化设计，可依照客户不同化学药液及工艺需求定制化设计。

适用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Plating

应用领域：半导体先进封装、2.5D/3DIC封装、化合物半导体、硅晶圆制造、SiC晶圆制造、MOSFET晶圆后段制程（BGBM）、车用二极管、石英元件、CIS光学元件。

单芯片清洗设备XS5000系列

适用制程：Etch, PR Strip, Wafer Clean, Flux Clean, Mask Clean

应用领域：半导体先进封装、2.5D/3DIC封装、化合物半导体、硅晶圆制造、SiC晶圆制造、MOSFET晶圆后段制程（BGBM）、车用二极管、石英元件、CIS光学元件。

涂胶显影设备

BNE TC1500涂胶显影off line设备

BNE TC2000涂胶显影设备

联系方式：

地址：上海市浦东新区飞渡路1568号C5幢

电话：021-5088 0328

邮箱：sales@bjnewestech.com

微信公众号：新毅东

值此之际，我们诚邀业界同仁共聚本届盛会，莅临展位现场参观交流、洽谈合作。

关于JFSC&CSE2024